レジスト用原料 2,3-キシレノール、3,4-キシレノール 田岡化学が古くから培ってきたフェノール合成技術を活かし、長く生産を行っています。 過去には農薬や医薬中間体として活躍し、今は主にフォトレジスト原料として活躍の場を広げております。