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製品情報

レジスト用原料

2,3-キシレノール、3,4-キシレノール
田岡化学が古くから培ってきたフェノール合成技術を活かし、長く生産を行っています。
過去には農薬や医薬中間体として活躍し、今は主にフォトレジスト原料として活躍の場を広げております。