レジスト用原料

2,3-キシレノール、3,4-キシレノール
田岡化学が長期に渡り培ってきたフェノール合成技術を活かした製品です。
過去には農薬や医薬中間体として、現在は主にフォトレジスト原料として広く活用されています。